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    類別
    品名
    英文名
    分子式
    級別
    AR
    EL
    MOS
    CMOS
    RM-A
    RM-B


    過氧化氫 Hydrogen Peroxide H2O2
    硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
    鹽酸 Hydrochloric Acid HCl
    硝酸 Nitric Acid HNO3
    發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
    磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
    氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
    冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
    氫氧化銨 Ammonium Hydroxide NH4·OH
    氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
    氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
    氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH


    氟化銨腐蝕液(BOE) Amnonium Fluoride Etchants NH4F·HF
    鋁腐蝕液(PES) Aluminum Etchants H3PO4·HNO3·CH3COOH
    鉻腐蝕液 Chrome Etchant  
    銅腐蝕液 Copper Etchant  
    Ito腐蝕液 Ito Etchant  
    鎳銀腐蝕液 Nickel And Silver Etchant  
    金腐蝕液 Gold Etchant  
    壓點腐蝕液 Press Dot Etchant  
    硅腐蝕液(MAE) Silicon Etchants HNO3·HF·CH3COOH
    混合酸3F Mixed Acid 3F  
    混合酸4F Mixed Acid 4F  

    甲醇 Methanol CH3OH
    乙醇 Ethanol C2H5OH
    異丙醇(點擊進入詳細信息) IPA CH3CHOHCH3
    丙酮 Acetone (CH3)2CO
    醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
    甲苯 Toluene C6H5CH3
    二甲苯 Xylenes C8H10
    三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
    1.1.1三氯乙烷 1.1.1—Trichloroethane CH3CCl3
    環已烷 Cyclohexane C6H12




    去毛劑 Depilitant  
    漂洗液    
    剝離液 Peel Off Liquid  
    光刻膠配套試劑    
    正膠顯影液 Positive Develop  
    負膠顯影液 Negative Develop  
    硅片高純清洗劑 RMT-6  
    硅酸鈉 Sodium silicate  
    松油醇 Terpilenol C10H18O
    根據客戶需求,可配制其它特定化學品。

     


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